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PR 코팅과 기판의 극성변화에 대해서 여쭙겠습니다.

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빈깡통 작성일2016-06-02 11:21

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초기 SiO2 기판의 표면은 친수성이였으나 PR을 코팅한후 PR을 다시 제거하면 SiO2 기판의 극성이 소수성으로 변합니다. 

PR은 AZ5213E 를 사용하고요 공정과정은 다음과 같습니다.
PR코팅 -> 120oC baking(2분30초) -> 아세톤 (4분) -> 메탄올(4분) -> DI water (4분)

왜 SiO2 기판의 극성이 친수성에서 소수성으로 변하게 되는걸까요?
혹시 PR이 완전히 제거되지 않고 기판에 남아 있어서 그런걸까요?

댓글 10

돌아온백수님의 댓글

돌아온백수

이 PR이 image reversal 인가요? 120도는 cross-linking 이 시작되는 온도가 넘는데.... HMDS를 사용하지는 않으셨나요?

여러가지 가능성이 있는데요. 일단, 메탄올이 완전히 제거되지 않았을 수도 있고요.
원래, 물은 사용할 필요가 없는데, 왜 물을?

현상은 뭔가 표면에 남아있는 겁니다.

빈깡통님의 댓글

빈깡통 댓글의 댓글

답변 정말 감사합니다!
사용한 PR은 image reversal PR입니다. 그리고 HMDS는 사용하지 않았습니다.
메탄올 이후에 물을 사용한것은 메탄올을 씻어내기 위함이였는데 필요 없는 과정인가요?

빈깡통님의 댓글

빈깡통 댓글의 댓글

아! 그리고 노광은 하지 않았습니다. 단지 테스트용으로 PR코팅후 PR을 제거하는 과정만 했습니다.

쿠오바디스공도리님의 댓글

쿠오바디스공도리 댓글의 댓글

돌백님도 리소그래피쪽을 하셨나보네요..그런데 Image reversal PR 뭔가요?
Negative PR을 말씀하시는건지?

소수, 친수에 대해 초딩수준밖에 모르지만.. 그냥 제 막연한 생각엔...
뭔가 현상이 덜 되서 기름막이 생긴게 아닐까요?... -ㅂ-

쿠오바디스공도리님의 댓글

쿠오바디스공도리 댓글의 댓글

아 여기서는 현상이라기보다 Rework이란 말을 쓰는게 더 맞는거 같네요,

돌아온백수님의 댓글

돌아온백수 댓글의 댓글

알콜은 증발됩니다. 씻어내지 않아도 되고요.
120도 온도면, PR의  molecular weight 가 더 증가해서 용해속도가 늦어져요. 여전히 표면에 남아 있습니다.

먼저 핫플레이트의 온도를 캘리브레이션 하셔야 하고요. 95도 에서 glass transition 이 일어날거에요. 그보다 높은 온도면 됩니다.

노광후에는 110 도 이상에서 cross-linking 이 시작될텐데요.

그런데, 아직도 이런 PR 을 쓰나요? 30년이 더 넘은 제품일텐데.....

빈깡통님의 댓글

빈깡통 댓글의 댓글

이야.. 대단하시내요 명확한 답변에 감탄하고 갑니다. 도움이 많이 되었습니다

kinetics님의 댓글

kinetics

말라서 갈라진 땅에 물을 부으면 티도 안나는 것과 같지.
거런데는 비를 기다리거나 포기하거나.

세희아빠님의 댓글

세희아빠

아세톤으로 PR REMOVE 하는 걸 보니, POSI PR을 사용하시는 것 같은데, 아세톤 처리
시간이 너무 짧은 것 같습니다.
110도 이상 온도에서 BAKE 진행 시 최소 10분 정도 아세톤 처리 후 DI RINSE 시 제거 되는
경험이 있습니다. (PHOTO/ETCH 공정 관련 엔지니어 근무 중)
DI RINSE가 꼭 필요없다면, IPA 처리 후 N2 건조도 가능하니 참고 바랍니다.

빈깡통님의 댓글

빈깡통 댓글의 댓글

답변 정말 감사합니다. 아세톤 처리 시간을 좀더 늘려봐야할것 같습니다. 감사합니다!! 많은 도움이 된것 같습니다.

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