ALD(atomic layer deposition) 관련 허접하고도 간단한 질문입니다

글쓴이
평등대
등록일
2017-02-22 22:00
조회
390회
추천
0건
댓글
4건
너무 배경지식 없이 물어보는거 같아서 죄송합니다만
보통 ALD로 실리콘위에 알루미나 나 하프니아를 올린다고 알고있습니다.
그런데 제가 현재 만들어볼까 하는 소자는 SiO2 위에 금속 패터닝을 한번하고
그위에 알루미나(나 하프니아)를 올리는 모양새입니다.
공용장치 중에는 ALD가 없어서 다른 연구실의 지인에게 한번 물어봤더니
금속이 패터닝된 상태라면 (금속파티클땜에)장치가 오염될수도 있는
우려가 있어 안될거란 쪽으로 얘기해주었습니다
이렇게 말한 지인도 이해가 가는데(개인의 장치가 아니니 혹시라도 잘못되면 안되니까요)
일반적으로 안되는건지 궁금합니다. 논문중에는 금속을 포함한 여러 재료 위에 ALD로 알루미나를
쌓아본 논문도 있긴하던데(금속위라도 잘 된다는 이야기여서 저로서는 희망을 얻었습니다만)
이런식으로 사용하시는 분 계신가요? 감사합니다.

  • 돌아온백수 ()

    ALD가 고온 공정이 아닌데요. 400도 이하에서 Al2O3 를 증착하는 것으로 아는데.....
    그런데, 시료 표면에 OH 기가 있어야 증착이 됩니다. 아무 금속이나 되지 않겠죠.

  • 댓글의 댓글 평등대 ()

    답변 감사합니다!

  • 처음처럼 ()

    잘됩니다...

  • 댓글의 댓글 평등대 ()

    오오 잘되는군요!

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