다른 사람들 의견

• 돌아온백수 (17-04-08 07:11)

  FMEA 예제 같아 보이네요.
  
  현상은 film stoichiometry 가 다르다는 거죠? 두께도 다르겠죠. 두께를 프로필로미터로 재어보셨나요?
  
  HF 에 식각이 된다면, oxynitride 인데, O2 공급이 안보이네요.
  
  가능한 원인은 열거된 전부 일 수 있는데, 의외로 챔버 리크일 수도 있어요. 잔여 산소의 양이 다른 챔버보다 많은 상태일지도 몰라요.

  FMEA 예제 같아 보이네요. 현상은 film stoichiometry 가 다르다는 거죠? 두께도 다르겠죠. 두께를 프로필로미터로 재어보셨나요? HF 에 식각이 된다면, oxynitride 인데, O2 공급이 안보이네요. 가능한 원인은 열거된 전부 일 수 있는데, 의외로 챔버 리크일 수도 있어요. 잔여 산소의 양이 다른 챔버보다 많은 상태일지도 몰라요.
• 세희아빠 (17-04-13 18:29)

  돌아온백수님 말씀 감사합니다.
  Chamber Leak는 기본적으로 Check했던 사항이라 기록을 깜빡했네요.
  일단 추정은 전극 부분 노출로 인한 RF Power 인가 후 방전 시 Arcing으로 인한 비정상 반응으로
  추정되고 있습니다.
  관련 설비 Part 교체 후 결과는 나중에 같은 문제로 인해 고민 하는 회원님이 계실 수 있으니, 댓글로 남기려고 합니다.

  돌아온백수님 말씀 감사합니다. Chamber Leak는 기본적으로 Check했던 사항이라 기록을 깜빡했네요. 일단 추정은 전극 부분 노출로 인한 RF Power 인가 후 방전 시 Arcing으로 인한 비정상 반응으로 추정되고 있습니다. 관련 설비 Part 교체 후 결과는 나중에 같은 문제로 인해 고민 하는 회원님이 계실 수 있으니, 댓글로 남기려고 합니다.
• 세희아빠 (17-06-06 17:53)

  직접 질문하고, 결과까지 적게 되었네요.
  AMAT사 P-5000 CHAMBER 내부를 아시는 분이면 이해 가능 할 것이라 보고 간단히 적겠습니다.
  CHAMBER 상단 SHOWER HEAD 전극 부분과 CHAMBER 상단 COVER BODY 사이에 테프론 재질의
  절연 PART가 있습니다.
  해당 파트의 변형으로 인해 RF 인가 시 정상적으로 전극과 SUSCEPTOR 사이에 RF POWER가
  걸리지 않고, 전극과 CHAMBER BODY 사이로 RF가 세는 문제가 원인이였습니다.
   공정 이상 발생 시 설비 점검 및 PART 이상 유/무 확인의 중요성을 다시 한번 느끼게 되는 경험이였습니다.
   만약 RF 관련 장비 혹은 공정 이상 시 전극 부분의 절연 관련 PART의 상태를 확인하는 것이
  필요하다 판단 됩니다.

  직접 질문하고, 결과까지 적게 되었네요. AMAT사 P-5000 CHAMBER 내부를 아시는 분이면 이해 가능 할 것이라 보고 간단히 적겠습니다. CHAMBER 상단 SHOWER HEAD 전극 부분과 CHAMBER 상단 COVER BODY 사이에 테프론 재질의 절연 PART가 있습니다. 해당 파트의 변형으로 인해 RF 인가 시 정상적으로 전극과 SUSCEPTOR 사이에 RF POWER가 걸리지 않고, 전극과 CHAMBER BODY 사이로 RF가 세는 문제가 원인이였습니다. 공정 이상 발생 시 설비 점검 및 PART 이상 유/무 확인의 중요성을 다시 한번 느끼게 되는 경험이였습니다. 만약 RF 관련 장비 혹은 공정 이상 시 전극 부분의 절연 관련 PART의 상태를 확인하는 것이 필요하다 판단 됩니다.