반도체에서요...
- 글쓴이
- Zak
- 등록일
- 2002-10-01 04:26
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학부생인데요..
반도체공부중에 정말 모르겠는게 있어서요..
일단 외부 자극에 의해 과잉캐리어가 생성되면..
그 자극에의해서 캐리어들이 표동,확산하잖아요..
그런데 또 내부전계에의해.. 표동확산한다는데 이것이 이해가 안되구요..
앰비폴라 방정식의 의미를 모르겠어요..
이게 모에 쓰는 건지..ㅜ.ㅜ
반도체공부중에 정말 모르겠는게 있어서요..
일단 외부 자극에 의해 과잉캐리어가 생성되면..
그 자극에의해서 캐리어들이 표동,확산하잖아요..
그런데 또 내부전계에의해.. 표동확산한다는데 이것이 이해가 안되구요..
앰비폴라 방정식의 의미를 모르겠어요..
이게 모에 쓰는 건지..ㅜ.ㅜ
다른 사람들 의견
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백수
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엠비폴라 방정식은 일반화된 식입니다. 바이폴라를 해석할때, minority 캐리어의 과잉부분만 고려해도 된다는 것은 하나의 가정이죠. 이런 가정을 사용하여 표현식을 단순화해서 주로 사용합니다. 그러나, 그런 가정이 적용될 수 없는 상황에서는 엠비폴라 방정식을 써야 제대로 해석이 됩니다. 포텐셜은 연속함수입니다. 외부 자극이 있었다면, 그 경계조건을 만족하는 포텐샬 분포가 내부에 생기게 되겠지요. 포아송 방정식을 풀면 되겠죠.
