Silicon nitride etching의 mask material
- 글쓴이
- K.H.
- 등록일
- 2013-05-24 22:29
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silicon wafer 위에 silicon nitride 를 얹고 reactive ion etching으로 laser waveguide를 만들려고 합니다.
어떤 mask material을 써야하고 mask는 어떻게 만들어야 하는지 궁금합니다.
폭은 1 마이크론 정도로 생각하고 있습니다.
어떤 mask material을 써야하고 mask는 어떻게 만들어야 하는지 궁금합니다.
폭은 1 마이크론 정도로 생각하고 있습니다.
다른 사람들 의견
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JH KIM
()
PR mask 직접 쓰면 안돼나요?
-
Talez
()
PR 을 못 쓰시는 이유가... 있을까요? BHF로 에칭할 때도 어느정도 사용 가능한데 RIE면 전혀 불가능할 이유가 없어 보입니다.
정 안 된다면 Chromium 써보셔도 됩니다. 그런데 이건 또 금속을 패터닝하고 etch해줘야 하는데, SiNx가지고 불편하게 공정을 더 추가할 이유가 없을 것 같네요.
