반도체 불순불 도핑후 junction depth 측정관련 질문
- 글쓴이
- sejane
- 등록일
- 2012-05-21 11:26
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반도체에 불순물을 도핑하고 junction depth(Xj)를 측정할때
기판농도(CB)와 불순물농도(C(x))가 같은 지점이 Xj라고 하는데,
도대체 기판농도가 무슨 농도를 말하는건가요?
기판농도(CB)와 불순물농도(C(x))가 같은 지점이 Xj라고 하는데,
도대체 기판농도가 무슨 농도를 말하는건가요?
다른 사람들 의견
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미노
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반도체는 애초에 4족이나 3-5족 원소를 이용해서 크리스탈 구조로 돼 있습니다. 그런데, n형, p형 반도체는 여기에 불순물을 첨가 (도핑 또는 성장)해서 전자나 홀이 추가로 생성됩니다.
반도체 도핑은 이런 n형이나 p형 반도체에 다시 또 불순물을 첨가하는 것입니다. 그러니 애초에 기판에 농도가 있습니다.
보통 반도체 관련 학부 서적에는 n이나 p라는 값으로 표현이 됩니다. -
sejane
()
아 간단한거였군요ㅋ 이제 알겠네요! 감사합니다^^
